荷兰还是下手了 出口管制加码，光刻机风暴再起
荷兰还是下手了
2024年9月7日，荷兰政府颁布了一项新规定，要求出口到欧盟以外地区的先进光刻机等设备必须得到特别许可。这一决策对全球半导体行业产生了震动，尤其是考虑到ASML公司在光刻机领域的领导地位。ASML的光刻机作为半导体制造的关键设备，其重要性显而易见，而荷兰此举无疑将对全球产业布局产生长远影响。
荷兰的这项出口管控强化措施可能基于多重考量。一方面，意在保护国家核心技术和产业竞争优势，确保在全球科技竞赛中的主导权；另一方面，也反映了国际政治经济环境变化下，出口策略的必要调整。然而，这对于ASML来说是个重大的挑战，因为即使有与中国合作的愿望，也必须遵循来自美国的指令，显示了国际关系中的复杂依附性。
具体到受限制的设备，荷兰明确指出为深紫外(DUV)浸没式光刻机，此举被广泛认为对中国的直接影响显著，因为早前极紫外(EUV)光刻机已禁止向中国销售，除了欧盟和俄罗斯等特定情况外。美国自2018年起便推动对华芯片科技的压制措施，特别是限制ASML向中国出口高精度及EUV光刻机，近年来更是频繁以“国家安全”为由收紧出口政策。去年10月，美国单方面宣布进一步限制ASML对中国光刻机的出口，尽管中国是荷兰重要的出口市场。
中国在光刻机技术上面临的封锁促使国内企业加大自主研发力度，旨在满足内需并提高国际竞争力，这一过程并非破坏而是被迫的创新之路。前ASML CEO彼得·温宁克曾指出，美国的限制最终可能导致反效果，推动中国加速研发，最终实现技术独立。历史和现状均显示，外部压力往往激发中国内在的创新潜力，从无到有，迎难而上，最终在诸多技术领域取得突破。
中国在光刻机研究上的努力，长远来看，将促进全球芯片产业链的技术革新和稳定性增强。技术突破能为行业提供新视角和解决方案，同时，中国作为潜在的光刻机供应商，能减少对单一来源的依赖，稳定全球供应链。关于“破坏论”的指责，更多基于既得利益者的立场，忽略了中国自主研发的正当性和必要性。
面对光刻机技术的高门槛，中国凭借其科研实力和决心，有望逐步克服挑战，实现核心技术自主可控。市场的力量和科技进步的趋势不会因人为阻挠而改变，开放合作才是共赢之道。中国将继续坚持科技创新，打破技术封锁，核心技术的自主化是中国坚定不移的目标。在这个过程中，所有的挑战终将成为中国变得更加强大的磨砺石。
荷兰还是下手了。
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